Установка плазмохимического травления XORS 200A ICP

Аватар автора
АО НПП ЭСТО
Установка предназначена для плазмохимического травления критических слоев материалов в полупроводниковых производствах СБИС уровня 65–28 нм. Используется для травления оксидов, нитридов, low–k, для удаления фоторезиста in-situ, а также скоростного травления кремния TSV, твердых масок, аморфного углерода, поликремния и др.

0/0


0/0

0/0

0/0