Установка совмещения фотошаблона и экспонирования (Mask Aligner)

Mask Aligner — это установка фотолитографии, предназначенная для переноса рисунка фотошаблона на слой фоторезиста, нанесённый на поверхность кремниевой пластины, с использованием ультрафиолетового излучения. На этом этапе формируется геометрия будущих микроструктур: дорожек, контактов, областей травления, элементов MEMS, оптоэлектронных структур и других топологических элементов микроэлектронных устройств. Применяется при разработке и производстве: • микроэлектронных устройств • MEMS-структур • фотонных компонентов • сенсоров • оптоэлектронных приборов. В технологической линии установка выполняет ключевой этап фотолитографии — перенос рисунка маски на фоторезист. Подробнее о модели на сайте ГК Гермес: ГК Гермес - это комплексный поставщик промышленного и лабораторного оборудования широкой специализации. Бесплатный звонок по России: +7 (800) 444-24-69 Главный офис в Санкт-Петербурге: +7 (812) 220-44-88